안녕하세요? 오늘은 반도체 PHOTO 공정이 진행되는 순서에 대해 알아보도록하겠습니다. PHOTO공정은 반도체 미세회로 패턴 형성에 있어서 아주 중요한 공정입니다. PHOTO공정이 제대로 되지않는다면 반도체 패턴이 제대로 형성되지 않고, 제대로 형성되지 않은 패턴은 전기적, 물리적 결함을 발생시켜 제대로된 반도체를 만들지 못하게 합니다. 그러면 PHOTO 공정의 순서에 대해 알아보도록 하겠습니다. 1. 웨이퍼 처리순수한 Silicon Wafer는 친수성 막질입니다. 그런데 포토 공정에서 쓰이는 Photo resist는 유기용매로서 친수성 막질에서 제대로 접착이 되지 않습니다. 그래서 먼저 친수성 막질을 소수성 막질로 바꿔줘야하는데, 그때 화학 gas를 사용하여 웨이퍼 막질에 분사해줌으로서 소수성으로 만들..
